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TESCAN 正式发布一款全新的用于SEM和FIB-SEM系统中电子束曝光(EBL)的软硬件解决方案

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发表时间:2021-02-04 10:42

TESCAN Essence™ EBL套件包含软件模块,可通过Essence™电镜控制软件直接控制电子束曝光(EBL)工艺,从而高效地实现微米和纳米级结构与器件的原型设计。


2021年1月29日,TESCAN ORSAY HOLDING a.s. 正式发布 EssenceTM EBL(电子束曝光)套件,这是一款完全集成的专用的解决方案,可以配置在TESCAN SEM和FIB-SEM仪器上,它与TESCAN的快速静电束闸配合使用,为实验室研究提供了更多的可能,在满足对微米和纳米级结构及器件进行原型设计的同时,还可以实现SEM和FIB-SEM的成像及分析功能

电子束曝光是一种使用聚焦电子束在覆盖有电子敏感膜(抗蚀剂)的表面上绘制图案的技术。该技术在原型制作中很常见,可在各种基板上制备具有特定形状、尺寸和材料成分的微结构和纳米结构,例如传感器、光子、等离子体、自旋电子器件、MEMS、微流体以及用于细胞生长的表面。

TESCAN TOF-SIMS及纳米成型方向应用产品经理Tomáš Šamořil 曾说:“在大学或其它机构的小型科研团队中,仪器通常由多个团队共享,因此功能多样性、易用性和可靠性是购买新设备时需要考虑的主要问题,通过将SEM或FIB-SEM的功能扩展到中级电子束曝光应用,就能够满足表征和原型制作的需求。”在SEM或FIB-SEM上增加电子束曝光技术后,研究人员可以充分利用这一平台的分析能力,在完成曝光过程后快速验证结构、尺寸或材料组成。电子束曝光(EBL)与聚焦离子束(FIB)和气体注入系统(GIS)技术提供的精密材料刻蚀,已被证明是一种强大的组合,可用于光子学、光学、等离子体、磁学、生物学及电子学中微米和纳米器件快速原型设计



TESCAN EssenceTM EBL套件包括软件模块,该模块完全集成在TESCAN的EssenceTM电镜控制软件中,并使用开源的第三方图案编辑器KLayout执行所有必需的光刻步骤。这样使操作变得非常容易简化了混合技术的设计过程,无需进行复杂的数据处理。


欲了解TESCAN EssenceTM EBL 详情,请点击此处



导读

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